ESC靜電吸盤(pán)是一種廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的裝備,其基本原理是利用靜電作用力吸附工件。在本文中,我將詳細(xì)解釋ESC靜電吸盤(pán)的發(fā)明歷史、相關(guān)行業(yè)應(yīng)用、技術(shù)方向和
Read More..半導(dǎo)體材料生長(zhǎng)中的MOCVD(金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積)技術(shù)在現(xiàn)代電子學(xué)和光電子學(xué)中具有廣泛的應(yīng)用。MOCVD技術(shù)的主要優(yōu)點(diǎn)是可以生長(zhǎng)高質(zhì)量、大面積、厚度均勻的半導(dǎo)體
Read More..前言:半導(dǎo)體設(shè)備是當(dāng)今電子科技領(lǐng)域中最重要的器件之一。在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中,反應(yīng)腔是至關(guān)重要的組成部分,它直接影響半導(dǎo)體器件的質(zhì)量和產(chǎn)量。本文將介紹半導(dǎo)
Read More..隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,半導(dǎo)體設(shè)備零部件的制造和維修成為了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中不可或缺的環(huán)節(jié)。然而,半導(dǎo)體設(shè)備零部件的制造和維修存在著一些技術(shù)難點(diǎn),同時(shí)也受到著
Read More..一、前言?半導(dǎo)體電子束光刻設(shè)備是當(dāng)今微電子制造過(guò)程中不可或缺的一種工具。它的出現(xiàn)極大地推動(dòng)了半導(dǎo)體芯片的制造工藝和產(chǎn)品性能的提升。在光刻過(guò)程中,真空系統(tǒng)
Read More..物理氣相沉積設(shè)備PVD的歷史、原理及零件制造?關(guān)鍵詞:物理氣相沉積設(shè)備,PVD設(shè)備,歷史發(fā)展,原理,零件制造,磁控濺射,電弧離子鍍,分子束蒸發(fā),磁控反應(yīng)蒸發(fā),磁控濺射沉
Read More..?化學(xué)氣相沉積(Chemical?Vapor?Deposition,CVD)是一種制備薄膜的技術(shù),其歷史可以追溯到19世紀(jì)末。早期的CVD技術(shù)使用的是簡(jiǎn)單的實(shí)驗(yàn)室裝置,如加熱石英管,將氣體通
Read More..歡迎來(lái)到分子束外延設(shè)備MBE的奇妙世界!這種神奇的設(shè)備可以生長(zhǎng)出許多高質(zhì)量的納米級(jí)半導(dǎo)體材料,對(duì)于當(dāng)今科技領(lǐng)域的發(fā)展有著舉足輕重的地位。MBE技術(shù)需要在真空環(huán)
Read More..半導(dǎo)體離子注入設(shè)備是半導(dǎo)體制造中重要的設(shè)備之一,它可以將離子注入到半導(dǎo)體材料中,從而改變其導(dǎo)電性能。這個(gè)過(guò)程需要在真空環(huán)境中進(jìn)行,以避免雜質(zhì)對(duì)半導(dǎo)體材料的
Read More..創(chuàng)新引領(lǐng),協(xié)同發(fā)展,新十年再出發(fā)?CITE2023展會(huì)概覽中國(guó)電子信息博覽會(huì)(中文簡(jiǎn)稱(chēng):電博會(huì),英文簡(jiǎn)稱(chēng):CITE),經(jīng)過(guò)十年努力,現(xiàn)已成為影響力提升最快的電子信息博覽會(huì),也
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