●8位專家展望EUV光刻技術(shù)（二）
承接上一部分，本短采訪內(nèi)容仍然來自GlobalSources電子工程專輯于2010年05月07日發(fā)表的采訪。這次訪談的作者為來自電子工程專輯馬立得先生。
3、Burn Lin
——臺(tái)灣半導(dǎo)體制造有限公司微成型部高級(jí)主管
“該行業(yè)在某項(xiàng)技術(shù)上下的賭注太多。我認(rèn)為把所有雞蛋放在一個(gè)籃子里是很危險(xiǎn)的。很多人都明白其中的道理?！?/p>
4、Kurt Ronse
——IMEC公司光刻技術(shù)部總監(jiān)
“我認(rèn)為我們?cè)谘刂_的方向前進(jìn)，因?yàn)槟壳斑€沒有很多替代辦法；我們或者停止縮小尺寸，或者繼續(xù)推動(dòng)EUV技術(shù)?！?/p>
“EUV技術(shù)已經(jīng)取得了很大的進(jìn)步，該技術(shù)還沒有大功告成，現(xiàn)在仍然有許多工作要做。但是在我看來，EUV和其他替代技術(shù)之間的差距在過去一年已經(jīng)增大。目前其它替代技術(shù)都沒能取得多大進(jìn)展，而且它們?cè)讷@取資金方面也面臨困難。替代技術(shù)要達(dá)到目標(biāo)將面臨很大困難。這些替代技術(shù)必須專注于16或11納米，因?yàn)樗鼈儞碛幸恍┻_(dá)到目標(biāo)的方法和手段。如果繼續(xù)專注于32納米或22納米，則會(huì)錯(cuò)過自己的目標(biāo)。”
5、Walden Rhines
——Mentor Graphics公司董事長(zhǎng)兼CEO
“包括OPC和其它分辨率增強(qiáng)技術(shù)在內(nèi)的計(jì)算光刻，是能夠把我們從光刻機(jī)不斷飆升的成本中解救出來的技術(shù)。在過去10年中，計(jì)算光刻在EDA市場(chǎng)上占有可用市場(chǎng)總量(TAM)的最大份額。”
6、DanRubin
——Alloy Ventures公司風(fēng)險(xiǎn)投資專家
“日趨明顯的一個(gè)現(xiàn)象，就是EUV技術(shù)無法充分利用傳統(tǒng)光學(xué)光刻技術(shù)的基礎(chǔ)架構(gòu)。這個(gè)新穎的技術(shù)創(chuàng)新，要求EUV資源和反射型掩模供應(yīng)鏈，而這個(gè)供應(yīng)鏈尚未建立，另外，缺陷檢測(cè)仍然需要大量投入、雄厚的資金以及進(jìn)度方面的調(diào)整。即使完整技術(shù)解決方案所需的各部分能夠準(zhǔn)時(shí)組合，EUV高昂的成本也會(huì)令人無法承受，從而影響先進(jìn)存儲(chǔ)器設(shè)備的采納?！?/p>
納米壓印光刻技術(shù)應(yīng)對(duì)32nm以下工藝的實(shí)現(xiàn)
“在內(nèi)存芯片市場(chǎng)，我一直支持壓印光刻技術(shù)。依靠不到1億美元的總投資，MolecularImprints公司(MII)已取得了令人難以置信的進(jìn)展，而且性能改進(jìn)的步伐在持續(xù)前進(jìn)。其CMOS工具的可用性和硬盤驅(qū)動(dòng)工具的吞吐量，從技術(shù)角度來看頗令人震驚。如果將投入在EUV上的金錢和業(yè)內(nèi)關(guān)注分一部分給它，MII今天可能已經(jīng)有了次32納米CMOS生產(chǎn)工具?！?/p>
7、Mark Melliar-Smith
——納米壓印光刻供應(yīng)商MII公司CEO
“這個(gè)行業(yè)限制了自己的發(fā)展前景?，F(xiàn)在，它太過于關(guān)注單一解決方案。我認(rèn)為這樣不好。如果MII公司有去年EUV資金的1/12，我們可能已經(jīng)在解決半導(dǎo)體市場(chǎng)眾多遺留問題方面前進(jìn)了很遠(yuǎn)，并已經(jīng)做好12至18個(gè)月內(nèi)投產(chǎn)的準(zhǔn)備?！?/p>
8、KazuoUshida
——尼康旗下精密設(shè)備有限公司總裁
“對(duì)于小批量生產(chǎn)，EUV看起來很有前途。但是EUV趕不上22納米半節(jié)距路線圖。EUV將會(huì)在晚些時(shí)候出現(xiàn)，也許會(huì)趕上16納米節(jié)點(diǎn)。我們還沒有計(jì)量工具。開發(fā)掩模工具將需要兩年時(shí)間?！?/p>