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【兆恒機(jī)械】化鎳金生產(chǎn)流程及工藝簡介

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  • 添加日期:2021年07月23日

目前PCB業(yè)界流行的表面處理制程有噴錫、抗氧化(OSP)、電鎳金、化鎳金、化銀、化錫等幾種。化鎳金(ENIG=electroless nickel and immersion gold)制程主要應(yīng)用于筆記本電腦主板、各種電腦內(nèi)存條、聲卡、顯卡、路由器、手機(jī)板、數(shù)碼相機(jī)主板、各種存儲塊以及攝相機(jī)等高難度線路板的制造。

化鎳金制程優(yōu)點 

1、 表面平坦;

2、 可焊接,可打線;

3、 可接觸導(dǎo)通;

4、 可散熱(高溫不氧化);

5、 可耐多次回流焊。

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幾種PCB表面處理對比

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化鎳金流程簡介 

1、一般化鎳金流程:水平前處理→上料→除油→水洗→水洗→微蝕→水洗→水洗→酸洗→純水洗→純水洗→預(yù)浸→活化→純水洗→純水洗→純水洗→化學(xué)鎳→純水洗→純水洗→化金→回收→純水洗→純水洗→下料→洗板→檢板

2、厚化金流程水平前處理→上料→除油→水洗→水洗→微蝕→水洗→水洗→酸洗→純水洗→純水洗→預(yù)浸→活化→純水洗→純水洗→純水洗→化學(xué)鎳→純水洗→純水洗→預(yù)浸金→厚化金→回收→純水洗→純水洗→下料→洗板→檢板

化鎳金各工序原理及說明 

1、水平前處理

通過水平前處理將銅面的過度氧化及污染,以機(jī)械法和化學(xué)法相結(jié)合的方法去除,協(xié)助清潔能力不太強(qiáng)的除油槽,使后續(xù)的沉鎳金得以順利進(jìn)行。常見的方法有微蝕+尼龍磨刷,微蝕+噴砂,純微蝕水平前處理等等。

2、除油

去除銅面輕微氧化及污染,降低槽液的表面張力,使藥水在對象表面擴(kuò)張,達(dá)到浸潤的效果。除油劑一般為有機(jī)酸型,容易滋生霉菌,保養(yǎng)時要注意槽壁的清洗。由于含有界面活性劑,因此其后的第一道水洗不開打氣或輕微開打氣,槽液本身更無需空氣攪拌,防止氣泡過多不易清洗。除油槽液要求充分的循環(huán)過濾,避免出現(xiàn)渾濁現(xiàn)象。CuO + 2 H+ →Cu2++ H2O

3、微蝕 

去除銅面氧化,使銅表面微粗化,并化學(xué)鎳層保持良好的結(jié)合力。 

NaS2O8 + H2O → Na2SO4 + H2SO5  

H2SO5 + H2O → H2SO4 + H2O2 

H2O2 + Cu → CuO + H2O 

CuO + H2SO4 → CuSO4 + H2O

為了保持比較穩(wěn)定的微蝕速率,溶液中的銅離子一般要求控制在3-20g/l,因此在配新槽時需要保留1/5-1/3的母液,或添加適量的硫酸銅。槽液需要適當(dāng)?shù)拇驓猓嗡畷r間不宜過長(建議3-10秒)。

4、酸洗

去除微蝕后的銅面氧化物及殘留的鹽類。

CuO + H2SO4 → CuSO4 + H2O

5、預(yù)浸 

維持活化槽中的酸度,使銅面在新鮮的狀態(tài)下進(jìn)入活化槽。預(yù)浸所使用的硫酸為AR級,鐵離子的濃度要求<0.5ppm。

CuO + H2SO4 →CuSO4 + H2O

6、活化

通過銅和鈀的置換反應(yīng),在銅面上生成一層鈀,作為化學(xué)鎳反應(yīng)的觸媒?;罨鄄垡簝?nèi)不能存在氯離子、鐵離子、鎳離子等雜質(zhì)污染。生產(chǎn)過程中溫度一般不超過30℃,不能開打氣,而添加藥水時應(yīng)在槽內(nèi)無板時進(jìn)行,并開打氣1-2min使藥水初步循環(huán)均勻。藥水添加必須使用專用的量杯。槽壁需要定期進(jìn)行硝槽處理,以保持槽壁干凈。

陽極反應(yīng)  Cu → Cu2++ 2 e- (E0 = 0.34V)

陰極反應(yīng)  Pd2+ + 2 e- → Pd (E0 = 0.98V)

全反應(yīng)   Cu + Pd2+ → Cu2+ + Pd

7,化學(xué)鎳

在活化后的銅面上反應(yīng)生成一層P/Ni合金層,作為銅和金相互遷移或擴(kuò)散的阻隔層。槽液的主要成份為:

A)硫酸鎳:提供反應(yīng)所需的鎳離子;

B)次磷酸鈉:還原劑,使鎳離子還原為金屬鎳;

C)絡(luò)活劑:與鎳離子絡(luò)活,減少游離鎳離子濃度,防止生成氫氧化鎳和亞磷酸鎳,增加槽液的穩(wěn)定性;

D)PH值調(diào)整劑:維持適當(dāng)?shù)腜H值;

E)穩(wěn)定劑:防止鎳在膠體粒子或其他雜質(zhì)粒子上沉積;

F)促進(jìn)劑:增加被鍍對象表面的負(fù)電位,使啟鍍?nèi)菀准霸黾舆€原效率。

H2PO2-+ H2O → HPO32-+ 2H+ + 2e- 次磷酸根氧化釋放電子

Ni2++ 2e-→ Ni  鎳離子得到電子還原成金屬鎳                     

2 H+ + 2 e-→ H2↑ 氫離子得到電子還原成氫氣

H2PO2-+ e-→ P+2 OH-  次磷酸根得到電子析出磷

總反應(yīng)式: Ni2++ H2PO2-+ H2O → H2PO3-+2 H+ + Ni

化鎳沉積的pH(4.4-4.8),液溫(80-86℃),與槽液負(fù)載(Loading Factor 0.3-0.8dm2/L,不可低于0.1也不可超過1.0),是主宰反應(yīng)快慢的三大參數(shù),必須采用精密儀器,執(zhí)行自動添加與全程監(jiān)控。且應(yīng)定時進(jìn)行線外分析,進(jìn)行數(shù)據(jù)對比(量產(chǎn)者每班1-3次)。

凡此三參數(shù)上升者,都可能因過度活化而長胖(因其主還原劑NaH2PO2次磷酸二氫鈉,要在高堿中活力才會強(qiáng));反之三大條件不足時,亦將會導(dǎo)致起鍍不良甚至露銅。

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8、 化學(xué)金

提供Au(CN)2-來源,在鎳面發(fā)生置換反應(yīng),生成金屬金層。

陽極反應(yīng)    Ni →Ni2+ + 2 e-    (E0 = -0.25V)

陰極反應(yīng)   Au(CN)2- + e- → Au + 2 CN- (E0 = 0.6V)

全反應(yīng)   Ni + Au(CN)2- → Ni2+ + Au + 2 CN-

酸性金水中含金量約 0.8-1.5g/L。一般之銅污染不可超過5ppm,一旦少許清潔銅墊在全無鎳面覆蓋之下,很可能在金水中也發(fā)生銅與金的置換,進(jìn)而造成銅份溶入。當(dāng)金水中的銅污染量增多時,會常出現(xiàn)金面異常而呈現(xiàn)較紅的色澤,使得金與鎳之間的密著力也會變差。ENIG的某些焊墊若出現(xiàn)霧霧暗暗時,就可能是無鎳的金面。倘有懷疑時,可用剝金液剝除金層,是鎳是銅自必一目了然。            

金屬雜質(zhì)     容許量(ppm)      影響                

Cu                5     金析出速度增加,焊錫性不良                

Ni                 900      金析出速度降低                

Fe                 2          金析出速度降低

9、厚化金 

通過自身的還原作用將Au(CN)2-還原出金屬金,可以進(jìn)一步加厚金層,一般用于Wire bonding制程。

陽極反應(yīng)     M →M2+ + 2 e-   

陰極反應(yīng)    Au(CN)2- + e- → Au + 2 CN- 

10、洗板

洗板的作用是洗凈板面的藥水殘留,烘干板面防止金面氧化。常見的工藝有稀硫酸(0.5-1%)+純水洗,檸檬酸+純水洗。