10月4號(hào),據(jù)外媒消息稱,佳能公司將斥資超過500億日元(約3.5億美元)在日本中部栃木縣建設(shè)工廠,以擴(kuò)大其現(xiàn)有的芯片制造光刻機(jī)的生產(chǎn),目標(biāo)將當(dāng)前半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)能提高
一倍。資料顯示,在2021年的全球光刻機(jī)市場(chǎng),荷蘭ASML獨(dú)占了79.4%的市場(chǎng)份額,尼康與佳能分別占據(jù)10.4%和10.2%的市場(chǎng)份額。目前佳能在日本擁有兩家半導(dǎo)體設(shè)備工廠,此次新建新的光刻機(jī)設(shè)備工廠則是佳能近21年來(lái)的首次。
新的半導(dǎo)體設(shè)備工廠將于2023年開始建設(shè),該工廠將于2025年開始運(yùn)營(yíng),佳能發(fā)言人小林弘樹周三通過電話告訴彭博新聞社。小林說(shuō),該公司還可能利用該設(shè)施生產(chǎn)下一代芯片制造設(shè)備-圍繞一種稱為納米壓印技術(shù)的技術(shù)-但由于該技術(shù)仍在開發(fā)中,因此尚未做出最終決定。
光刻機(jī)是芯片制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備。華盛頓已經(jīng)確保中國(guó)無(wú)法從行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者ASML Holding NV獲得最先進(jìn)的光刻技術(shù),并且正在加緊努力,進(jìn)一步限制中國(guó)獲得更成熟的光刻設(shè)備。
根據(jù)此前的資料顯示,相較于目前已商用化的EUV光刻技術(shù),NIL 技術(shù)可大幅減少耗能,并降低設(shè)備成本。原因在于NIL 技術(shù)較為簡(jiǎn)單,耗電量可壓低至EUV 技術(shù)的10%,并讓設(shè)備投資降低至僅有EUV 設(shè)備的40%。不過,雖然NIL 技術(shù)有許多的優(yōu)點(diǎn),但現(xiàn)階段在導(dǎo)入量產(chǎn)上仍有不少問題有待解決,其中包括壓印頭的耐用性問題、易因空氣中的細(xì)微塵埃的影響而形成瑕疵等問題。
總部位于東京的佳能在芯片制造設(shè)備供應(yīng)方面落后于同胞尼康公司和荷蘭的ASML,其產(chǎn)品用于在成熟的生產(chǎn)節(jié)點(diǎn)上制造不太先進(jìn)的半導(dǎo)體。據(jù)中國(guó)創(chuàng)始證券(Securities)稱,佳能的光刻機(jī)只能制造出130納米的芯片,這項(xiàng)技術(shù)在20多年前首次出現(xiàn)。
佳能建造一個(gè)全新的工廠的舉動(dòng)標(biāo)志著對(duì)舊芯片技術(shù)的持續(xù)需求的預(yù)期。
東莞兆恒機(jī)械擁有超過18年的精密零件制造經(jīng)驗(yàn),持續(xù)為國(guó)內(nèi)外眾多半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)制造過無(wú)數(shù)的半導(dǎo)體設(shè)備高精密零部件,兆恒基于年均20年的多國(guó)籍技術(shù)管理團(tuán)隊(duì)和高端的進(jìn)口硬件設(shè)備群,及執(zhí)行嚴(yán)謹(jǐn)?shù)馁|(zhì)量管理系統(tǒng)得以保駕護(hù)航,受到客戶持續(xù)的信賴和好評(píng),如果您有相應(yīng)的零件需要制造,歡迎來(lái)圖定制!
版權(quán)聲明:兆恒機(jī)械倡導(dǎo)尊重與保護(hù)知識(shí)產(chǎn)權(quán),文章版權(quán)歸原作者及原出處所有。文章系作者個(gè)人觀點(diǎn),不代表兆恒機(jī)械的立場(chǎng),轉(zhuǎn)載請(qǐng)聯(lián)系原作者及原出處獲取授權(quán),如發(fā)現(xiàn)本網(wǎng)站內(nèi)容存在版權(quán)或其它問題,煩請(qǐng)聯(lián)系我們溝通處理。 聯(lián)系方式: 3376785495@qq.com