粗暴暴力欧美VIDEO_九九影院东京热_av一本大道香蕉大在线_私密浏览器在线观看_99久热er在线精品_最好看的最新高清中文字幕电影_国产精品特黄特色三级_女高中生高潮娇喘流水视频_中文亚洲字幕无码不卡一二区_无码av一区二区免费播放

專(zhuān)注高端智能裝備一體化服務(wù)
認(rèn)證證書(shū)

【兆恒機(jī)械】創(chuàng)新型原位半導(dǎo)體計(jì)量平臺(tái)Aston

  • 點(diǎn)擊量:
  • |
  • 添加日期:2021年11月12日


Aston是半導(dǎo)體生產(chǎn)計(jì)量領(lǐng)域中的一次重大演變,實(shí)現(xiàn)了原位分子過(guò)程控制,使現(xiàn)有工廠運(yùn)行更高效,并可推動(dòng)產(chǎn)出提升。Aston專(zhuān)為半導(dǎo)體生產(chǎn)而設(shè)計(jì),它作為一個(gè)強(qiáng)大的平臺(tái),可以取代多種傳統(tǒng)工具,并在一系列全面應(yīng)用中提供前所未有的控制水平,包括光刻、電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積、腔室清潔、腔室匹配和消解。

“通過(guò)Aston,某些應(yīng)用中的單位工藝吞吐量可以提升40%以上,這是一個(gè)很大的改進(jìn)?!皩?duì)于一家典型的晶圓廠來(lái)說(shuō),即使整體產(chǎn)能提高1%,每年的產(chǎn)量也能增加價(jià)值數(shù)千萬(wàn)美元。”Atonarp公司首席執(zhí)行官、首席技術(shù)官和創(chuàng)始人Prakash Murthy說(shuō),“在現(xiàn)有生產(chǎn)工藝工具上加裝Aston,可在短短6到8周內(nèi)實(shí)現(xiàn)更高產(chǎn)量,而安裝新的生產(chǎn)設(shè)備則需要長(zhǎng)達(dá)一年的時(shí)間。這將從本質(zhì)上幫助制造商提高其生產(chǎn)水平,并有助于解決目前半導(dǎo)體晶圓廠產(chǎn)能不足的問(wèn)題?!?/span>

快速、可操作的端點(diǎn)檢測(cè)(EPD)是運(yùn)行半導(dǎo)體工具和晶圓廠的最有效方式。到目前為止,許多工藝步驟都無(wú)法部署EPD,因?yàn)樗璧脑?span style="text-decoration:underline;">傳感器不能經(jīng)受住苛刻的工藝或腔室清潔化學(xué)品的影響,或者會(huì)因冷凝水沉積而出現(xiàn)堵塞。因此晶圓廠不得不設(shè)定特定時(shí)間,以確保過(guò)程徹底執(zhí)行完畢。相反,Aston通過(guò)準(zhǔn)確檢測(cè)一個(gè)過(guò)程何時(shí)結(jié)束來(lái)優(yōu)化生產(chǎn),包括腔室清潔,這可將所需的清潔時(shí)間減少80%。

Aston對(duì)腐蝕性氣體和氣態(tài)污染物冷凝物具有抵抗力。它比現(xiàn)有解決方案更堅(jiān)固,具有獨(dú)立的雙電離源(一個(gè)經(jīng)典的電子沖擊電離源,和一個(gè)無(wú)燈絲等離子體電離器),因此可在半導(dǎo)體生產(chǎn)中出現(xiàn)的惡劣條件下可靠運(yùn)行。這使Aston能夠原位,即在傳統(tǒng)電子電離器會(huì)迅速腐蝕和失效的苛刻環(huán)境中使用。

與傳統(tǒng)質(zhì)量分析儀相比,Aston的服務(wù)間隔時(shí)間延長(zhǎng)了100倍。它擁有自清潔能力,可以清除某些過(guò)程中產(chǎn)生的冷凝物沉積。

由于Aston能夠自主產(chǎn)生等離子體,無(wú)論是否存在過(guò)程等離子體,均可正常運(yùn)行。這與光學(xué)發(fā)射光譜測(cè)量技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)勢(shì),后者需要等離子體源方可操作,這使Aston成為ALD和某些金屬沉積工藝的理想選擇,這些工藝可能會(huì)需要使用較弱的、脈沖等離子體,或無(wú)需等離子體進(jìn)行處理。

Aston還能夠通過(guò)提供量化、可操作的實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)來(lái)提高過(guò)程一致性,并可通過(guò)人工智能推進(jìn)高性能機(jī)器學(xué)習(xí),滿(mǎn)足最苛刻的過(guò)程應(yīng)用。除此之外,得益于實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)分析和腔室管理的高精確度、靈敏度和可重復(fù)性,生產(chǎn)線和產(chǎn)品產(chǎn)量也得到了提高。

Aston主要針對(duì)化學(xué)氣相沉積(CVD)和蝕刻應(yīng)用,這兩種應(yīng)用的年增長(zhǎng)率均超過(guò)13%。該光譜儀既可在新腔室組裝時(shí)安裝在其中,也能夠加裝在已經(jīng)運(yùn)行的現(xiàn)有腔室中。